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MA6-1（B306）(工艺类别:光刻 状态:正常)
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编号:MA6/BA6【2μm线宽尺寸】
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用途:一、典型应用：可用于MEMS、先进封装、化合物...
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MA6-3（B306）(工艺类别:光刻 状态:正常)
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编号:MA6【1.2μm线宽尺寸，对准精度1μm】
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用途:一、典型应用：高精度：采用先进的光学系统和控制...
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晶片键合机（B306）(工艺类别:光刻 状态:正常)
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编号:CB6L【阳极键合、胶临时键合】
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用途:一．典型应用：1.阳极键合；2.低温共晶键合；...
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旋转涂布机（B104）(工艺类别:光刻 状态:正常)
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编号:OPTIcoat【110℃烘烤温度】
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用途:一、典型应用：可用于晶圆表面涂胶工艺等领域。
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氮气烘箱（B306）(工艺类别:光刻 状态:正常)
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编号:IPHH101 【350℃烘烤温度】
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用途:一、典型应用：可用于烘烤光刻胶等领域。
二、...
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电子束光刻机（B104）(工艺类别:光刻 状态:正常)
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编号:JBX5500ZA【30nm线宽尺寸】
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用途:一、典型应用：应用于掩膜制备、原型化、小批量器...
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喷胶机（美图）（B203）(工艺类别:光刻 状态:正常)
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编号:SC-200-V【正胶SPR220，负胶7133】
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用途:一、典型应用：喷胶技术不仅可以在不同形状的晶圆...
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