设备列表
M4L等离子去胶机(B203) M4L等离子去胶机(B203)(工艺类别:其它  状态:正常)
编号:M4L 【表面清洁、残胶去除】
用途:一、典型应用:主要用于残余的光刻胶的去除。 二... 预约
一楼有机清洗间(B103) 一楼有机清洗间(B103)(工艺类别:其它  状态:正常)
编号:01-04【有机类化药清洗/剥离工艺】
用途:一、典型应用:wafer清洗、剥离等。 二、... 预约
抛光机(B400) 抛光机(B400)(工艺类别:其它  状态:正常)
编号:AP-380F【晶圆化学机械抛光】
用途:一、典型应用:Si,GaAs,InP,玻璃,陶... 预约
公用设备(B102,包含:显微镜、去胶机) 公用设备(B102,包含:显微镜、去胶机)(工艺类别:其它  状态:正常)
编号:000102
用途:注意:对于有独立使用权限的用户,18:000之... 预约
研磨机(B400) 研磨机(B400)(工艺类别:其它  状态:正常)
编号:AL-380F【晶圆研磨】
用途:一、典型应用:Si,玻璃,蓝宝石,陶瓷,GaN... 预约
超净开货门申请-开门时间段:9:30-10:00,14:30-15:00 超净开货门申请-开门时间段:9:30-10:00,14:30-15:00(工艺类别:其它  状态:正常)
编号:100006
用途:上午开门时间为9:30-10:00,下午开门时... 预约
减薄机(B400) 减薄机(B400)(工艺类别:其它  状态:正常)
编号:HRG-150【晶圆减薄】
用途:一、典型应用:Si,GaAs,InP,玻璃,蓝... 预约
参观申请 参观申请(工艺类别:其它  状态:正常)
编号:100003
用途:60分钟之内,每人次1元。 预约
二楼无机清洗间 (B202) 二楼无机清洗间 (B202)(工艺类别:其它  状态:正常)
编号:02-01【无机类化药清洗/腐蚀工艺】
用途:一、典型应用:wafer清洗、腐蚀等。 二、... 预约
物品出入申请 物品出入申请(工艺类别:其它  状态:正常)
编号:100032
用途:物品出入申请 预约
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