设备列表
电子束蒸发 Ei-5z(B203) 电子束蒸发 Ei-5z(B203)(工艺类别:镀膜  状态:正常)
编号:Ei-5z【Ti、Al、AuGe、Au、Pt生长】
用途:一、典型应用:用于蒸发Ti、Al、Ni、Cr等... 预约
电子束蒸发台COOKE(B203) 电子束蒸发台COOKE(B203)(工艺类别:镀膜  状态:正常)
编号:COOKE【Ti、Al、Ni、Cr、Au生长】
用途:一、典型应用:主要用于蒸发Ti、Al、Ni、C... 预约
光学镀膜机(B101) 光学镀膜机(B101)(工艺类别:镀膜  状态:正常)
编号:OTFC-900【生长光学介质薄膜】
用途:一、典型应用:光学增透膜、高反膜、ITO、截止... 预约
ICPCVD(B102) ICPCVD(B102)(工艺类别:镀膜  状态:正常)
编号:ICPCVD 【75℃生长SiO2、SiNx】
用途:一、典型应用:面向剥离技术的低温沉积,低温沉积... 预约
PECVD(B102)-1 PECVD(B102)-1(工艺类别:镀膜  状态:正常)
编号:SYSTEM 100【350℃生长SiO2】
用途:一、典型应用:SiO2生长,一次可放置两寸片5... 预约
国产热蒸发2(B203) 国产热蒸发2(B203)(工艺类别:镀膜  状态:正常)
编号:DM-450C【铟、锡、金锡合金生长】
用途:一、典型应用:In、Sn、AuSn的厚膜蒸发。... 预约
磁控溅射LAB18(B203) 磁控溅射LAB18(B203)(工艺类别:镀膜  状态:正常)
编号:LAB18【多种类型薄膜生长,填孔能力良好】
用途:一、典型应用:主要用于溅射Ti、Al、Ni、A... 预约
氧化炉1-CALOGIC(B302) 氧化炉1-CALOGIC(B302)(工艺类别:镀膜  状态:正常)
编号:CALOGIC【1100℃热氧SiO2生长】
用途:一、典型应用:离子注入表面的牺牲层,器件绝缘介... 预约
磁控溅射FHR(B103) 磁控溅射FHR(B103)(工艺类别:镀膜  状态:正常)
编号:FHR【溅射金属Ti、Al、Cr、Cu、Au】
用途:一、典型应用:可溅射生长Ti、Al、Cr、Cu... 预约
退火炉2-CALOGIC(302) 退火炉2-CALOGIC(302)(工艺类别:镀膜  状态:正常)
编号:CALOGIC【6英寸常规退火】
用途:一、典型应用:金属合金、薄膜消除应力。 二、... 预约
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