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光学镀膜机（B101）(工艺类别:镀膜 状态:正常)
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编号:OTFC-900【生长光学介质薄膜】
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用途:一、典型应用：光学增透膜、高反膜、ITO、截止...
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ICPCVD（B102）(工艺类别:镀膜 状态:正常)
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编号:ICPCVD 【75℃生长SiO2、SiNx】
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用途:一、典型应用：面向剥离技术的低温沉积，低温沉积...
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PECVD（B102）-1(工艺类别:镀膜 状态:正常)
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编号:SYSTEM 100【350℃生长SiO2】
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用途:一、典型应用：SiO2生长，一次可放置两寸片5...
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国产热蒸发2（B203）(工艺类别:镀膜 状态:正常)
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编号:DM-450C【铟、锡、金锡合金生长】
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用途:一、典型应用：In、Sn、AuSn的厚膜蒸发。...
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磁控溅射LAB18（B203）(工艺类别:镀膜 状态:正常)
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编号:LAB18【多种类型薄膜生长，填孔能力良好】
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用途:一、典型应用：主要用于溅射Ti、Al、Ni、A...
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磁控溅射FHR（B103）(工艺类别:镀膜 状态:正常)
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编号:FHR【溅射金属Ti、Al、Cr、Cu、Au】
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用途:一、典型应用：可溅射生长Ti、Al、Cr、Cu...
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