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一、典型应用：用于蒸发Ti、Al、Ni、Cr等普通金属和AuGe、Pt、Au等贵重金属，部分金属最大蒸发厚度可至1000nm。二、原理：高真空环境下，电子枪灯丝加热后，发射热电子，热电子受电场加速，获得很大的动能，在永磁铁或电磁铁的约束下，偏转到蒸发源表面，轰击材料并使其汽化，从而达到蒸发的目的。三、备注：①一次可蒸镀两寸片最多74片，2寸片小架子4片，四寸片24片，六寸片8片，样品尺寸向下兼容，更换行星架需多预约1h，薄膜不均匀性≤±5%。 ②由于加班时无人员轮换，每日17:30-18:30时为加班人员短暂休息和用餐时间，涉及到贵重金属的使用时,需有工作人员在场，非工艺特别赶的情况，请尽量避开预约此段时间。③ 单次工艺1.5小时起预约。④预约备注生长金属种类和厚度，不备注生长材料及厚度，工艺强制取消。请提前10分钟到场准备样品，过时15分钟视为工艺取消。⑤ 严禁不按平台规定恶意占用机时，如有发现取消其设备独立使用资格。
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