电子束蒸发 Ei-5z(B203)
编号: Ei-5z【Ti、Al、AuGe、Au、Pt生长】
工艺类别: 镀膜
所属单位: 加工平台
管理员: 马苏州
状态: 正常
价格: 400/30分钟
单位预约时间: 30(单位:分钟)
用途
一、典型应用:用于蒸发Ti、Al、Ni、Cr等普通金属和AuGe、Pt、Au等贵重金属,部分金属最大蒸发厚度可至1000nm。二、原理:高真空环境下,电子枪灯丝加热后,发射热电子,热电子受电场加速,获得很大的动能,在永磁铁或电磁铁的约束下,偏转到蒸发源表面,轰击材料并使其汽化,从而达到蒸发的目的。三、备注:①一次可蒸镀两寸片最多74片,2寸片小架子4片,四寸片24片,六寸片8片,样品尺寸向下兼容,薄膜不均匀性≤±5%。 ②由于加班时无人员轮换,每日17:30-18:30时为加班人员短暂休息和用餐时间,涉及到贵重金属的使用时,需有工作人员在场,非工艺特别赶的情况,请尽量避开预约此段时间。③ 单次工艺1.5小时起预约。超过350nm预约1.5h以上,超过1μm预约时间2h以上。④预约备注生长金属种类和厚度,不备注生长材料及厚度,工艺强制取消。请提前10分钟到场准备样品,过时15分钟视为工艺取消。⑤ 严禁不按平台规定恶意占用机时,如有发现取消其设备独立使用资格。
主要技术指标
1、蒸发速率0.01nm/s-2nm/s,预蒸发功率10%-45%,蒸发功率0-60%。2、蒸发厚度:普通金属(Ni、Al、Ti)5nm-2000nm,贵重金属(Au、AuGe)5nm-1000nm。3、工作真空:5E-4Pa,温度:20-300℃。 4、蒸镀Ni工艺,大架子速率限制0.1nm/s,单次蒸发厚度限制在300nm以内。 5、蒸镀Pt带胶lift-off工艺,厚度限制100nm以内。超过100nm风险自负。 6、有挥发性物体严禁进入腔室。 7、如需使用除硅片、蓝宝石、玻璃片以外的衬底进行该工艺,请联系设备负责人。 8、三层及三层以内金属总厚度在250nm以内,1.5小时起预约。三层以内金属总厚度超出350nm和三层以上金属,2小时起预约。 9、预约工艺请备注工艺所需金属及厚度,填写金属及厚度需真实,由于客户填写金属及厚度与实际工艺金属及厚度有误,工艺员有权取消该次工艺,由此产生的费用由客户自己承担。如填写该工艺的金属及厚度有疑问,请联系设备负责人。
加工平台布局位置