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一、典型应用：光学增透膜、高反射膜、ITO、截止滤光片等光学薄膜蒸镀。
二、原理：光学薄膜泛指在器件表面用物理化学等方法沉积，利用光的干涉现象以实现增透、高反射、滤光、分光等光学现象。
例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍地减小；采用高反射比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高；
利用光学薄膜可提高太阳能电池的效率和稳定性。设备配备两把电子枪和射频等离子体辅助源，一次可蒸镀六寸片6片，两寸片30片，薄膜不均匀性≤±5%。
三、备注：请连续预约2小时起并备注工艺条件。
四、注意事项：1. 低于2小时、分开预约或不备注工艺条件将取消工艺；2. ITO工艺必须3小时起约； 3. 样品如需降温，必须预约足够的降温时间。4. 超过一个月未进行独立操作，将取消独立操作权限。5. 设备机时较紧张，迟到超15分钟将根据当日实际预约情况予以违约处理。6.ZnS工艺请提前沟通。
五、样品兼容尺寸及数量：8英寸向下兼容，腔室可同时最多容纳6片8/6/4英寸衬底，30片两英寸衬底，8英寸均匀性较差。
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