RIE1（B102）
编号： RIE【SiO2、SiNx刻蚀】
工艺类别： 刻蚀
所属单位： 加工平台
管理员： 冷家君
状态： 正常
价格： 250/30分钟
单位预约时间： 30(单位:分钟)
用途
一、典型应用：SiO2、SiNx刻蚀，可用于小批量工艺。 二、原理：F基反应气体在射频源作用下分解产生活性反应成分，在自偏压电场作用下与被刻蚀材料产生物理与化学作用，最终产生气体挥发物，达到刻蚀的目的。 三、备注：1.非标工艺请联系工作人员。
主要技术指标
1.RF功率：≤300W； 2.装片： 6英寸，向下兼容； 3.刻蚀气体：SF6、CHF3、O2、He； 4.可刻蚀材料：SiO2，SiNx，Si；
加工平台布局位置