M4L等离子去胶机（B203）
编号： M4L 【表面清洁、残胶去除】
工艺类别： 其它
所属单位： 加工平台
管理员： 马苏州
状态： 正常
价格： 38/15分钟
单位预约时间： 15(单位:分钟)
用途
一、典型应用：主要用于残余的光刻胶的去除。 二、原理：在射频电源的作用下，通入的氧气离化电离，形成等离子体，并与样品表面的光刻胶发生反应，生成气体排出。三、备注：该设备程序已编写完毕，客户只可选择已有的工艺程序，不可更改或新建。
主要技术指标
1、PC全自动操作，保证了工艺参数的高可控性、高精度以及工艺的高可重复性。2、LCD触摸屏控制，设备实际运行中的射频功率、气体流量、压力、工艺时间等参数都时时显示在触摸屏上，便于监测和控制。3、安全连锁报警系统，用户自定义错误提示信息，避免设备任何的带错运行。 4、0 ~ 600W 射频功率，自动匹配，适用于处理不同材质的样品。 5、3层可抽卸平板电极或笼式电极，可处理各种不同尺寸、形状的样品。6、干法处理工艺，无须任何化学试剂，安全、绿色、环保。
加工平台布局位置