NIKON-I7步进光刻机（B104）
编号： NSR I755I7B【500nm线宽尺寸】
工艺类别： 光刻
所属单位： 加工平台
管理员： 祝伟
状态： 正常
价格： 1200/60分钟
单位预约时间： 60(单位:分钟)
用途
一、典型应用：适用于2寸样品的高分辨率、高套刻精度和大批量样品曝光。 二、原理：采用I线光源和5:1缩小投影镜头，运用高精度投影镜头成像以及高精准干涉仪控制工作台步进运动，将掩膜版图形转移至晶圆表面。配备自动调平、调焦功能。 三、备注：1.非完整样品无法进行光刻工艺。2.设备曝光时间范围为50ms-2000ms。
主要技术指标
1、光源：I线（365nm波段）。 2、曝光强度：450毫瓦每平方厘米。 3、照明非均匀性：5.5%以内。 4、掩模光栏设置精度：+0.4mm到+0.8mm。 5、工作台步进精度：±0.10μm。 6、套刻精度：±0.250μm。 7、投影到样品上的最大曝光面积：17.5mm*17.5mm。 8、分辨率：0.5μm。 9、特定的套刻标记形貌。
加工平台布局位置