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一、典型应用：高精度：采用先进的光学系统和控制技术，能够实现高分辨率、高精度的曝光；
灵活性：具有多种曝光模式和曝光能量可调节的特点，可以适应不同工艺需求，满足不同芯片制造的要求；
高效性：具有快速曝光速度和高效的对位系统，能够提高生产效率，降低制造成本；
先进能量控制技术，确保每一次曝光一致性可靠性，可以实现微米级的图形曝光，支持背面对准光刻和键合对准工艺。
可用于MEMS、先进封装、化合物半导体、光电器件、光电显示和生物芯片等领域。
二、原理：将芯片制作所需要的线路与功能区图形从掩膜板复制到样品上。光刻机发出的光通过具有图形的掩膜版对涂有光刻胶的样片曝光，利用感光后的光刻胶在溶液中的溶解速度不同实现图形的复制。
三、备注：1.样品尺寸：最大2寸，最小1cm*1cm。2.碎片必须放置在2寸垫片上。
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