HDC氧化炉-退火炉（B103）
编号： HDC8000A【光刻胶碳膜工艺】
工艺类别： 掺杂
所属单位： 加工平台
管理员： 姬荣坤
状态： 正常
价格： 400/60分钟
单位预约时间： 60(单位:分钟)
用途
一、典型应用：该设备功能已转变为光刻胶碳膜退火工艺。 二：原理：炉管式退火设备。 三备注：硅片氧化/退火工艺转到302氧化/退火炉。
主要技术指标
1.温度精度：0.1°C； 2.控温模式：双偶控温； 3.程序控制单元：气体控制精度±0.5%； 4.样品尺寸及片数：一次最多可以装载100片6英寸（4英寸）基片或50片2英寸基片； 5.工艺温度:600~1150℃。
加工平台布局位置