|
一、典型应用：主要用于蒸发Ti、Al、Ni、Cr、Cu、Au等金属薄膜，蒸发速率0.01nm/s-2nm /s可调，最大蒸发厚度可至2000nm。二、原理：高真空环境下，电子枪灯丝加热后，发射热电子，热电子受电场加速，获得很大的动能，在永磁铁或电磁铁的约束下，偏转到蒸发源表面，轰击材料并使其汽化，从而达到蒸发的目的。三、备注：①一次可蒸镀两寸片25片，四寸片和六寸片5片，向下尺寸兼容。②薄膜不均匀性≤±5%。③单次工艺1.5小时起约，请提前10分钟到场准备样品，请备注生长材料及厚度，否则取消预约。
|