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一、典型应用：wafer清洗、剥离等。
二、原理：有机化液可以溶解光刻胶等有机物，达到清洁wafer或剥离作用。
三、备注：
1.周一至周五清洗间开放时间08:30--22:00，此时间段无需预约，但22:00之后停止使用；
2.周六清洗间开放时间08:30--18:00，此时间段无需预约，但18:00之后停止使用；
3.周日需要特批后，预约缴费（3个小时起约；按240/小时收费）；
4.平台学生周日使用清洗间，需要指导老师批准后方可使用；
5.所有使用者清洗结束后需要做到：器皿归位、关闭设备电源、拔线、关灯、关门。
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