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一、典型应用：
被广泛应用于半导体材料掺杂、改变光学材料的折射率、提高超导材料的临界温度，表面催化，
改变磁性材料的磁化强度和提高磁泡的运动速度和模拟中子辐照损伤等等领域。
此外离子注入技术也广泛应用于金属、陶瓷、玻璃、复合物、聚合物、矿物以及植物种子改良上。
二、原理：离子注入设备。
三：备注：
1. 非标准6寸晶圆样品需要使用石蜡贴片（6寸托盘）才可加工，确保粘贴牢固。
2.备注注入工艺条件，否则会被取消工艺预约。
3.特别提醒：镁、铝等元素需提前一天网上预约。
4.单次至少预约1小时,每个注入条件加收10min/个 的载/卸片、引束时间费用。
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