MOCVD CS1711（B204）
编号： CS1711
工艺类别： 外延
所属单位： 加工平台
管理员： 超级管理员
状态： 停用
价格： 100/30分钟
单位预约时间： 30(单位:分钟)
用途
用于GaAs与InP基的III-V化合物半导体薄膜的外延生长。
主要技术指标
6x2"近耦合喷淋头式反应室，管路配置为AsH3、PH3、SiH4、TMIn、TMGa、TMAl与DMZn。
加工平台布局位置