国产热蒸发2（B203）
编号： DM-450C【铟、锡、金锡合金生长】
工艺类别： 镀膜
所属单位： 加工平台
管理员： 孔子维
状态： 正常
价格： 125/30分钟
单位预约时间： 30(单位:分钟)
用途
一、典型应用：In、Sn、AuSn的厚膜蒸发。二、原理：采用电阻加热方式，将材料加热到高温使其蒸发。蒸发后的材料分子在真空中向基材运动，并在基材表面沉积形成薄膜。三、备注：①单次工艺2小时起约②单次最大厚度不超过10μm。
主要技术指标
1、6英寸样品，向下尺寸兼容； 2、本底真空5E-4Pa； 3、In蒸镀厚度：单次工艺1-10um； 4、典型工艺： 抽真空1h左右至真空5E-4Pa，10gIn在300A电流条件下蒸发约5min，完成约8-10μm厚度薄膜的蒸发。冷却15min后对腔体充气取样。 抽真空1h左右至真空5E-4Pa，10gSn在350A电流条件下蒸发约10min，完成约6μm左右厚度薄膜的蒸发。冷却15min后对腔体充气取样。
加工平台布局位置