一楼有机清洗间 3
编号: 01-02【有机类化药清洗/剥离工艺】
工艺类别: 其它
所属单位: 加工平台
管理员: 魏红霞
状态: 正常
价格: 30/60分钟
单位预约时间: 60(单位:分钟)
用途
一、典型应用:wafer清洗、剥离等。 二、原理:有机化液可以溶解光刻胶等有机物,达到清洁wafer或剥离作用。 三、备注: 1.周一至周五清洗间开放时间08:30--22:00,此时间段无需预约,但22:00之后停止使用; 2.周六清洗间开放时间08:30--18:00,此时间段无需预约,但18:00之后停止使用; 3.周日需要特批后,预约缴费(3个小时起约;按240/小时收费); 4.平台学生周日使用清洗间,需要指导老师批准后方可使用; 5.所有使用者清洗结束后需要做到:器皿归位、关闭设备电源、拔线、关灯、关门。
主要技术指标
1、有机清洗间工艺种类:清洗/剥离/去胶工艺; 2、有机类化药:丙酮、异丙醇、乙醇、3038显影液、三氯乙烯、TMAH、NMP等; 3、提供设备:恒温水浴加热设备、热板加热设备、超声波清洗设备、半导体旋转设备等。
加工平台布局位置