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一、典型应用：wafer清洗、腐蚀等。
二、原理：无机化液可以溶解wafer表面污染物达到清洁目的，部分化液可以与材料发生反应达到腐蚀目的。
三、备注：
1.周一至周五清洗间开放时间08:30--22:00，此时间段无需预约，但22:00之后停止使用；
2.周六清洗间开放时间08:30--17:30，此时间段无需预约，但17:30之后停止使用；
3.周日需要特批后，预约缴费（1小时起约；按240/小时收费）；
4.平台学生周日使用清洗间，需要指导老师批准后方可使用；
5.所有使用者清洗结束后需要做到：器皿归位、关闭设备电源、拔线、关灯、关门。
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