HDC水汽氧化炉（B103）
编号： HDC8000A【水汽氧化工艺】
工艺类别： 掺杂
所属单位： 加工平台
管理员： 姬荣坤
状态： 正常
价格： 400/60分钟
单位预约时间： 60(单位:分钟)
用途
一、典型应用：用于半导体低温水汽氧化工艺。 二、原理：氮气作为载气，传输水汽进行氧化。 三、备注：六寸、四寸、两寸均50片。
主要技术指标
指标： 1.温度150~600℃； 2.水汽温度:70℃； 3.载气流量:300ml/min；
加工平台布局位置