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一、典型应用：喷胶技术不仅可以在不同形状的晶圆上涂布光刻胶，还可以在具有形貌（沟道、V型槽以及深孔）的晶圆表面涂布共形的光刻胶，最主要的是可以在一些较薄易碎的晶片表面涂布光刻胶，而这是旋涂工艺所不能完成的（离心力的作用极易使晶片碎裂）。
二、原理：采用高压氮气雾化喷头，使用高压氮气将光刻胶液滴打碎，形成雾状喷射，喷在起伏结构的表面，形成均匀的光刻胶膜层。硅片被安装在加热的夹具表面，当雾滴喷在硅片表面后就立即粘附，不会流向他处。为了保证硅片的每一处都均匀的喷上光刻胶，硅片在完成一次表面喷涂后，会旋转90度，并再次喷涂。共旋转四次，喷涂四次，才能达到非常好的喷胶均匀性。
三、备注：目前只喷涂SPR220（正胶）、7133（负胶），若更换其他胶请先沟通工作人员。
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