离子注入机VARIAN（B101）
编号： VARIAN-EHP500【离子注入工艺】
工艺类别： 掺杂
所属单位： 加工平台
管理员： 姬荣坤
状态： 正常
价格： 800/30分钟
单位预约时间： 30(单位:分钟)
用途
一、典型应用：被广泛应用于半导体材料掺杂、改变光学材料的折射率、提高超导材料的临界温度，表面催化， 改变磁性材料的磁化强度和提高磁泡的运动速度和模拟中子辐照损伤等等领域。 此外离子注入技术也广泛应用于金属、陶瓷、玻璃、复合物、聚合物、矿物以及植物种子改良上。 二、原理：离子注入设备。 三：备注： 1.非8寸样品需要使用石蜡固定。 2.备注注入工艺条件，否则会被取消工艺预约。 3.铝元素需提前一天网上预约。 4.单次至少预约1小时,每个注入条件加收10min/个 的载/卸片、引束时间费用。
主要技术指标
1.注入能量：10~250keV（单价，双价态可达500keV，具体参考相关注入杂质）； 2.注入角度：0~60°； 3.注入剂量：1E11~E16 ； 4.注入元素：B、F、N、Ar、Al、Si、BF2； 5.晶圆尺寸：8寸向下兼容(单片注入，非8寸晶圆需要贴片工艺处理)； 6.注入温度：室温
加工平台布局位置