抛光机（B400）
编号： LP-50
工艺类别： 其它
所属单位： 加工平台
管理员： 李威磊
状态： 正常
价格： 400/60分钟
单位预约时间： 60(单位:分钟)
用途
利用不同颗粒度/PH值的抛光液，对所要研磨、抛光的样品进行物理和化学的加工处理，使样品的厚度及表面粗糙度到达所要求范围，对晶片实现研磨处理。 次氯酸钠抛光液1元/毫升（根据用量收费，收费条目：材料费） 氧化铈抛光液0.5元/毫升（根据用量收费，收费条目：材料费） 氧化硅抛光液暂计量不收费 另外：1个机时内（1小时）只能更换一次抛光盘
主要技术指标
预约时请仔细阅读技术指标； LP-50抛光机主要适用于Ⅲ-Ⅴ族 GaAs、InP材料的研磨抛光； 研磨液供给：1μm、3μm； 样品尺寸要求：2寸； 厚度精度：±2um。
加工平台布局位置