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等离子体化学气相沉积PETEOS，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上产生辉光放电，通入沉积气体，源气体电离产生等离子体，在反应过程中，反应气体从进气口进入腔内，逐渐扩散至样品表面，在射频源激发的电场作用下，反应气体分解成电子、离子和活性基团等。这些分解物发生化学反应，生成形成膜的初始成分和副反应物，这些生成物以化学键的形式吸附到样品表面，生成固态膜的晶核，反应物则通过真空本抽走。主要用于SiO2薄膜沉积以及深孔凹槽沉积填充，配合APCVD和HDPCVD结合使用可获得良好的间隙覆盖能力。可用于8寸及以下SiO2材料成膜, 可实施350℃、400℃工艺等.25片Cassette式自动传送。 八寸以下需使用托盘进行沉积，根据使用托盘数收取材料费。
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