8英寸微波等离子去胶机(F505)
编号： Q240
工艺类别： 刻蚀
所属单位： 加工平台
管理员： 王一凡
状态： 正常
价格： 150/15分钟
单位预约时间： 15(单位:分钟)
用途
氧在真空环境下受高频及微波能量作用，电离产生具有强氧化能力的游离态氧原子，它在高频电压作用下与光刻胶薄膜反应，通过氧原子与光刻胶在等离子体环境中发生反应，生成挥发性的一氧化碳和二氧化碳等生成物，这些生成物容易被真空系统抽走，从而实现去除光刻胶的目的，并具有低离子损伤，起辉迅速的优点。另外配备CF4气体可以去除离子注入、刻蚀等表面变性的光刻胶，从而达到轻易去除光刻胶
主要技术指标
支持6、8英寸25片多片批量工艺，也可单片及小片工艺；目前开放功率范围：100-1000W ;工艺气体：O2、Ar、、CF4 气体流量：50-2000sccm ； 工艺时间：0-30min； 打底胶去胶速率：20-50nm/min；常温工艺： 50-600nm/min
加工平台布局位置